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■製品名 シリコン基板（Labo-Si）
■サイズ 10×10×0.5ｔ（mm）
■面方位 <100>
■伝導型 N型
■製造方法 CZ法
■研磨 両面光学研磨
■数量 50枚
【注意事項】
※切断面に約20度程度の傾きがあります
※チッピング、カケ不問にて
【特徴】
シリコン基板は半導体材料として優れた特性を持ち、
ダイオードなどの電子デバイスを作成するために
広く使用されています。
また、赤外（IR）用途でも利用可能な
リーズナブルな材料でもあり
1.2um から 7um までの透過率に優れます。
【使用例】
赤外光（IR）の透過用窓材、赤外光学デバイス材料
半導体デバイス（トランジスタ、ダイオード、集積回路など）の試作や研究
各種素子（センサーやMEMS、光素子など）の評価
電子の伝導性や電子状態、磁気効果などの研究
